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本實用新型公開了一種帶材真空連續(xù)鍍膜系統(tǒng)及其所用的過渡艙單元，屬于真空連續(xù)鍍膜技術領域，提供一種帶材真空連續(xù)鍍膜用過渡艙單元，用以實現(xiàn)對真空鍍膜系統(tǒng)所需的真空要求；還提供一種能夠實現(xiàn)對帶材進行連續(xù)真空鍍膜的系統(tǒng)，用以解決先用的鍍膜系統(tǒng)中需要將所有工藝設備與艙室需全部置于全封閉的大真空艙體中問題。本實用新型可僅在帶材進出真空鍍膜區(qū)兩側的輸送軌跡上設置過渡艙單元，進而實現(xiàn)對帶材的輸送軌跡所對應的輸送通道進行隔離密封，有效地確保了在真空鍍膜區(qū)內部形成的真空環(huán)境；因此本實用新型無需設置全封閉的大真空艙體以將放卷機構、收卷機構、真空鍍膜區(qū)以及帶材的整個輸送通道等包圍在該大真空艙體內部。(ESM)同樣的發(fā)明創(chuàng)造已同日申請發(fā)明專利