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專利號：201822030743

有效期間：2018-12-04 至 2028-12-03

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電子束鍍膜系統(tǒng)

更新日期：2022-09-29 17:09:46 溫馨提示：以下適用項目僅供參考，詳情請咨詢顧問

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專利類型：

實用新型

適用行業(yè)：

化學

專利描述：

本實用新型公開了一種電子束鍍膜系統(tǒng)，包括相連通的清洗室和蒸鍍室，清洗室底部設有氣體入口和清洗室抽氣口，清洗室內還設有磁控濺射裝置；蒸鍍室內設有電子束蒸鍍裝置，蒸鍍室底部還設有蒸鍍室抽氣口。本實用新型通過抽氣口排出清洗室和蒸鍍室內的空氣，再由...

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本實用新型公開了一種電子束鍍膜系統(tǒng)，包括相連通的清洗室和蒸鍍室，清洗室底部設有氣體入口和清洗室抽氣口，清洗室內還設有磁控濺射裝置；蒸鍍室內設有電子束蒸鍍裝置，蒸鍍室底部還設有蒸鍍室抽氣口。本實用新型通過抽氣口排出清洗室和蒸鍍室內的空氣，再由氣體入口向清洗室內通入離化氣體產生電子對待鍍膜的帶材進行清洗、加熱和刻蝕，可有效清除帶材鍍膜面的雜質和氧化層，極大提高鍍膜層的結合力，改善鍍膜層應力；通過蒸鍍室內的電子束蒸鍍裝置使鍍膜材料熔化蒸發(fā)、離化后沉積在帶材上進行鍍膜，能促進鍍膜材料離子在帶材上的沉積，使沉積形成的鍍膜層致密度提高；本實用新型可極大提高帶材鍍膜后的鍍膜層性能。

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